::: reklama@pbprog.kz
::: editor@pbprog.kz
::: webmaster@pbprog.kz
Китай начал массовое производство разработанного внутри страны оборудования для иммерсионной DUV-литографии
По информации Reuters, малоизвестная китайская государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, объединившая команды ведущих китайских стартапов в области литографии, возглавляет производство.
Это значительное достижение в рамках общенациональной инициативы Пекина по обеспечению самодостаточности в сфере производства полупроводников, что является одним из главных приоритетов председателя КНР Си Цзиньпина.
DUV (литография в глубоком ультрафиолете— это ключевой инструмент для производства микросхем, на рынке которого долгое время доминировала компания ASML
Информационное издание о технологиях The Information впервые сообщило о разработке этого оборудования в Китае в понедельник, отметив, что неназванная компания в Шанхае, поддерживаемая государством, начала производство этих машин и планирует выпустить около пяти штук в этом году и примерно 20 — в 2027-м.
Машина DUV от Aishengna потребует дополнительных испытаний и пока не может сравниться с конкурирующими моделями голландской фирмы.
Однако в случае успешного внедрения она станет альтернативным источником оборудования для китайских производителей микросхем, если западные правительства введут дополнительные ограничения на экспорт или обслуживание иностранных литографических инструментов.
Ожидается, что в этом году машины DUV китайского производства будут поставлены ведущим китайским производителям микросхем, в том числе Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor и производителю микросхем памяти ChangXin Memory Technologies (CXMT), сообщает The Information со ссылкой на двух источников, знакомых с ситуацией.
В иммерсионных машинах DUV между проекционной линзой и кремниевой пластиной используется слой воды, что позволяет печатать схемы меньшего размера, чем в обычных «сухих» системах.
Они используются для производства широкого спектра микросхем, а также могут применяться для изготовления более совершенных полупроводников с помощью многократного формирования рисунка, что требует многократного экспонирования одного и того же слоя.
После падения на 8% из-за отчета The Information в понедельник акции ASML снизились еще на 1,6%