Компания утверждает, что ее технология позволяет создавать элементы микросхем в 10 раз меньшего размера, чем в современных литографических системах, с шириной луча всего 0,1 нанометра по сравнению с длиной волны 13,5 нм, используемой в EUV-сканерах компании ASML. К 2029 году компания Lace планирует запустить тестовый инструмент на экспериментальном производстве.
Преимущество системы Lace заключается в том, что атомы не имеют дифракционного предела, в то время как литография на основе фотонов, включая системы EUV ASML, ограничена длиной волны используемого света. По мере того как производители микросхем уменьшают размеры элементов, они полагаются на все более сложные методы создания нескольких шаблонов, чтобы обойти это ограничение, но Lace полностью устраняет проблему, заменяя фотоны нейтральными атомами гелия и пучком, ширина которого примерно равна ширине одного атома водорода.
Компания Lace называет свои системы BEUV, что расшифровывается как Beyond-EUV. Компания была основана в 2023 году Холстом, физиком из Бергенского университета, и его соучредителем Адриа Сальвадором Палау. Сейчас в компании работают более 50 человек в Норвегии, Испании, Великобритании и Нидерландах. В прошлом месяце она представила свои разработки на конференции SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.
Lace присоединяется к растущему числу стартапов, разрабатывающих альтернативы практически монопольной технологии передовой литографии, принадлежащей компании ASML. Американские компании Substrate и xLight создают источники света на основе ускорителей частиц для экстремальной ультрафиолетовой или рентгеновской литографии. При этом xLight получила 150 миллионов долларов государственного финансирования. Компания Canon отправила свой первый инструмент для наноимпринтной литографии в Техасский институт электроники еще в сентябре 2024 года, а китайская Prinano поставила собственную систему наноимпринтинга на внутренний рынок.
Однако подход Lace отличается от всех вышеперечисленных. В то время как Substrate и xLight по-прежнему полагаются на фотоны, Lace полностью отказывается от электромагнитного излучения, а значит, у этого подхода нет существующей экосистемы технологических процессов, к которой его можно было бы подключить.