Несмотря на ужесточение экспортного контроля, Китай накопил значительный запас современного оборудования для литографии DUV, что дает его производителям чипов больше возможностей для поддержки производства полупроводников.
К началу 2026 года принадлежащие Китаю фабрики приобрели около 343 систем DUV литографии. Об этом говорится в отчёте, опубликованном в конце сентября Центром технологий и государственного управления (CTS), исследовательской группой из Вашингтона.
Несмотря на то, что эти системы менее совершенны, чем EUV, их можно адаптировать для производства логических чипов 7-нанометрового класса и усовершенствованной памяти, используемой в процессорах искусственного интеллекта, в том числе в серии Ascend от Huawei. Большая часть систем DUV в Китае основана на модели NXT:1980i от ASML.
По данным South China Morning Post, согласно отчёту CTS, около 270 систем, приобретённых китайскими фабриками, представляли собой иммерсионные DUV-системы Twinscan NXT:1980i.
В 2024 году китайские оборонные предприятия потратили более 13 миллиардов долларов на приобретение около 90 таких систем, а в 2025 году — ещё 89.
Данные о закупках в Китае также отражены в финансовой отчетности ASML. Как отмечает South China Morning Post, в 2024 году на Китай приходился 41% чистых продаж компании по направлениям поставок, а в 2025 году — 33%.
Это происходит на фоне ужесточения экспортного контроля в отношении современного литографического оборудования в Нидерландах. В сентябре 2023 года правительство Нидерландов начало требовать экспортные лицензии на NXT:2000i от ASML и более совершенные иммерсионные DUV-системы. Годом позже это требование распространилось на NXT:1980i, хотя экспорт этой модели по-прежнему может быть одобрен в индивидуальном порядке.
В отчете CTS утверждается, что существующий подход оставляет существенную лазейку, и высказывается опасение, что оборудование, продаваемое для производства зрелых узлов, потенциально может быть перепрофилировано или перенесено на передовые производственные линии. Американские законодатели стремятся устранить этот пробел с помощью более широких ограничений. В докладе особое внимание уделяется двухпартийному законопроекту MATCH, представленному в апреле, который предусматривает общекитайские ограничения на продажу и обслуживание оборудования для производства микросхем, которое Китай не может производить самостоятельно, в том числе иммерсионных систем DUV.
Хотя ужесточение ограничений не окажет немедленного влияния, поскольку китайские фабрики уже накопили значительный запас импортного оборудования, их долгосрочный эффект может быть значительным. В отчете потенциальное влияние рассматривается на основе двух теоретических сценариев. Согласно самому оптимистичному прогнозу, если Китай преодолеет другие препятствия в производстве чипов и продолжит импортировать около 90 систем NXT:1980i в год, его парк DUV к 2035 году сможет обеспечить ежегодное производство до 434 миллионов ИИ-чипов, эквивалентных H100 от NVIDIA. Если же в 2027 году импорт прекратится, то к 2035 году этот теоретический максимум производства снизится до 153 миллионов единиц в год.