Canon сокращает разрыв с ASML, выпуская оборудование для наноимпринтной литографии

Бизнес-менеджер Canon по полупроводниковому оборудованию Кадзунори Ивамото объяснил, что нанолитография предполагает нанесение на пластину маски с рисунком полупроводниковой схемы. С помощью одного отпечатка в соответствующих местах можно сформировать сложные 2D- или 3D-схемы. Улучшив маску, можно будет даже производить 2-нм чипы.

Как сообщается, литография Canon с наноотпечатками способна производить изделия с минимальным размером процесса 5 нм. В сегменте 5-нм техпроцесса рынка передового оборудования для производства полупроводников, где в настоящее время доминируют машины для экспонирования EUV ASML, литография наноимпринтинга Canon сокращает  разрыв с голландцами.

Что касается затрат на оборудование, Кадзунори Ивамото заявил, что затраты клиентов различаются, и расчетная стоимость одного отпечатка иногда может быть снижена вдвое по сравнению с традиционными процессами экспонирования.

Оборудование для нанолитографии также занимает меньшую площадь, что упрощает его внедрение. Ранее Фудзио Митарай упоминал, что стоимость оборудования для нанолитографии на один порядок ниже, чем стоимость оборудования EUV ASML. Однако окончательная цена пока не разглашается.

Согласно интервью NIKKEI, Ивамото также отметил, что Canon получила многочисленные запросы от производителей полупроводников, университетов и исследовательских институтов. Ожидается, что эта технология может послужить альтернативой EUV и будет способствовать производству различных полупроводников, включая флэш-память, DRAM для персональных компьютеров и логические ИС.