Китайцы «совершили ключевой прорыв» в технологии литографии

Согласно статье, опубликованной в ведущем научном журнале Nature, группа учёных из Пекинского университета совершила прорыв в визуализации молекулярного поведения фоторезиста — светочувствительного материала, используемого при производстве микросхем. Это достижение может привести к значительному сокращению дефектов при производстве современных микросхем.

Фоторезист, используемый в таких процессах, как фотолитография и фотогравировка, которые предполагают формирование узорчатого покрытия на поверхности, является ключевым компонентом в производстве микросхем. Зависимость Китая от импорта фоторезиста — один из факторов, ограничивающих его возможности в области производства передовых микросхем.

В статье говорится, что это шаг к устранению «ключевого препятствия, мешающего повышению производительности» в передовых процессах на уровне 7 нанометров и ниже.

Это достижение рассматривается как шаг к повышению самодостаточности Китая, поскольку литография остаётся одним из самых узких мест. Ведущему мировому поставщику оборудования для производства микросхем ASML с 2019 года запрещено продавать в Китай свои самые передовые машины для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии под давлением США.