На форуме «Микроэлектроника-2025» представлена концепция рентгеновского литографа

ИФМ РАН на Форуме «Микроэлектроника 2025» представил концепцию рентгеновского литографа, базирующуюся на достижениях последних лет в области твердотельных гибридных лазеров, ксенонового лазерно-плазменного источника на длине волны 11,2 нм, более эффективной разработанной Ru/Be многослойной рентгеновской оптики с R=72% (против 66% в литографах ASML).

Реализация этой концепции позволит создать отечественный литограф, конкурентноспособный, в том числе, на мировом рынке.

При сопоставимой производительности ожидается уменьшение почти на порядок энергопотребления, цены и стоимости эксплуатации.