Разработана технология массового производства гибких электронных устройств

Система сочетает в себе технологию экспонирования на основе цифровых микрозеркальных устройств (DMD) со сверхточным управлением движением, что позволяет в режиме реального времени компенсировать деформацию подложки и ошибки позиционирования.

Система цифровой литографии R2R, разработанная KIMM, использует технологию цифровой экспозиции на основе DMD для выборочного проецирования ультрафиолетового (УФ) света на определенные участки подложки. Для обеспечения непрерывной работы R2R исследовательская группа разработала специальный модуль экспонирования и сверхточную систему контроля перемещения полотна, обеспечивающую ширину линий менее 10 мкм. 

Традиционные системы цифровой литографии, как правило, основаны на платформах со сканирующим столом, которые ограничивают область нанесения рисунка размерами стола. Гибкие подложки также часто приходится временно прикреплять к подложке-носителю во время обработки, а затем отсоединять, что может снизить производительность и повысить риск появления дефектов. В отличие от традиционных систем, в новой системе используется линейно-лучевая экспонирующая система для нанесения рисунка на гибкие подложки по мере их движения над вращающимся валиком. Используя измерения на основе машинного зрения, система в режиме реального времени компенсирует деформацию подложки и ошибки позиционирования, обеспечивая сверхточное формирование рисунка на движущемся полотне.

Эта технология позволяет отказаться от традиционных фотошаблонов и создавать и изменять шаблоны с помощью программного управления. Это повышает эффективность производства за счет сокращения времени и затрат на изготовление масок. Поскольку гибкие подложки можно непрерывно транспортировать и наносить на них рисунок, не прикрепляя к подложке-носителю, система поддерживает непрерывное производство на больших площадях и при большой длине подложки. Ожидается, что эта технология повысит производительность при изготовлении гибкой электроники нового поколения и сформирует новую производственную парадигму для смежных отраслей.

Разработка позволяет адаптировать технологии литографии, используемые при производстве полупроводников, к процессу R2R с помощью безмасочной цифровой экспонирования, демонстрируя потенциал системы как производственной платформы нового поколения для гибких электронных устройств. Благодаря возможности создания рисунков с высоким разрешением и компенсации деформации подложки в режиме реального времени эта технология была номинирована на премию «Технология года» на конференции и выставке R2R USA в 2026 году.