Китай запустил проект стоимостью 210 миллионов долларов, направленный на создание первой в стране интегрированной промышленной цепочки для создания полупроводниковых материалов четвёртого поколения

По сравнению с традиционными полупроводниковыми материалами, они обладают более широкими зазорами забороной зоны, лучшими электрическими полями пробоя и превосходной теплопроводностью, что делает их подходящими для применения при высокой мощности и высоких температурах.

Материалы могут применяться в чипах на базе ИИ, электронном теплоуправлении, коммуникациях 5G и 6G, электромобилях и биомедицинских технологий.

Производственная база будет построена в высокотехнологичной зоне Чжэнчжоу в провинции Хэнань после подписания инвестиционного соглашения с Zhongke Powder Research (Henan) Superhard Materials Co., Ltd. 26 июня.

При поддержке Central South University компания планирует развивать производство по всей цепочке создания стоимости, включая оборудование для химического осаджения из алмазных паров (CVD), выращивание монокристаллов, эпитаксию, микро- и нанообработку, а также передовые упаковочные субстраты.

Проект также отражает более широкое стремление Китая укрепить отечественные цепочки поставок полупроводников на фоне растущего спроса на передовые электронные материалы. Хотя кремний остаётся доминирующим материалом для микросхем, исследователи всё чаще изучают алмазные и другие сверхширокозонные материалы для применений, требующих более высокой мощности, более быстрого рассеивания тепла и работы в экстремальных условиях, где традиционные полупроводники сталкиваются с ограничениями по производительности.

Новая производственная база будет использовать фирменную микро- и наноалмазную технологию LPPHT для поддержки крупномасштабного производства полупроводниковых материалов. Планы предусматривают установку 500 микроволновых систем химического осаджения плазменной плазмы (MPCVD), способных производить однокристаллические алмазные пластины диаметром 2–4 дюйма.

На объекте также будет 50 производственных линий, предназначенных для производства сферических микро- и наноалмазных порошков, используемых в современных материалах.

Согласно дорожной карте проекта, ожидается, что первые 200 систем MPCVD войдут в эксплуатацию к концу 2026 года.