В 2024–2025 годах Китай потратил более 13 миллиардов долларов на закупку оборудование ASML для литографии в глубоком ультрафиолетовой диапазоне (DUV) Read more
Импульс в 7 вольт, поданный на ультратонкую электронную пленку, может вызвать структурные изменения глубоко внутри поддерживающей ее сапфировой подложки Read more
Разработан компактный фотонный чип, позволяющий проводить трёхмерную ОКТ-инспекцию промышленных образцов Read more