Китайцы планируют к 2029 году запустить производство 5-нанометровых чипов без использования EUV литографии Read more
Разработана технология стабильного 10-слойного стекирования чипов, обеспечивающая плотность в 4 раза выше, чем у 12-Hi HBM Read more
Перовскитные солнечные элементы с тройным переходом достигают эффективности 27,3 % и рекордной стабильности в течение 770 часов Read more