Китайцы планируют к 2029 году запустить производство 5-нанометровых чипов без использования EUV литографии

Это очередной шаг страны по разработке альтернативных технологий производства микросхем на фоне ограничений, введенных США в отношении доступа Китая к передовому оборудованию для производства чипов.

Компания Yuanjiwei из Шанхая в четверг представила пилотную производственную линию, заявив, что она поддерживает этап вывода на печатную плату — или финальную стадию проектирования чипа — и охватывает весь производственный процесс от подготовки 2D-материалов до интеграции чипа.

Запуск производства свидетельствует о том, что 2D-технологии в области полупроводников в Китае перешли от лабораторных исследований к инженерной проверке и промышленному производству. Это важный шаг на пути к стремлению Китая достичь самообеспечения в области ключевых технологий.

На фоне экспортного контроля со стороны США Китай наращивает усилия по развитию альтернативных технологий производства чипов. Тем временем мировая полупроводниковая промышленность в целом также ищет новые способы производства современных чипов, поскольку традиционные чипы на основе кремния приближаются к физическим пределам возможностей.

2D-чипы считаются одним из самых перспективных направлений для чипов следующего поколения, заявил Фан Хао, директор по перспективным материалам Шанхайской муниципальной комиссии по науке и технологиям, на открытии производственной линии.